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半导体清洗纯水设备

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半导体清洗超纯水设备水质标准

半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

半导体清洗超纯水设备制备工艺

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥16MΩ.CM)

3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)

半导体清洗超纯水设备应用场合

☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

  ☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

  ☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

  ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

  ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

  ☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

  ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

  ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

  ☆高品质显像管、萤光粉生产

  ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

  ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

  ☆实验室和中试车间

  ☆汽车、家电表面抛光处理

  ☆光电产品、其他高科技精微产品


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